用于三维图案化器件之微影模型;A LITHOGRAPHY MODEL FOR THREE-DIMENSIONAL PATTERNING DEVICE

摘要

本文揭示一种用于在一微影投影装置中模拟包含一或多个特征之一图案化器件之一散射辐射场的电脑实施方法，该方法包含：使用该一或多个特征之特征元件之一或多个散射函数来判定该图案化器件之一散射函数；其中该一或多个特征中至少一者为一三维特征，或该一或多个散射函数特性化该等特征元件上处于复数个入射角之入射辐射场之散射。