| 发明名称 | 腔室密封构件 | ||
| 摘要 | 一种反应腔室包括用于处理衬底的上部区域、用于加载衬底的下部区域、可在反应腔室内移动的承受器、定位在承受器周界上的第一密封构件、定位在上部区域和下部区域之间的第二密封构件，其中，第一和第二密封构件有选择地彼此啮合，以限制上部区域和下部区域之间的连通。 | ||
| 申请公布号 | CN104081512A | 申请公布日期 | 2014.10.01 |
| 申请号 | CN201280057466.4 | 申请日期 | 2012.11.15 |
| 申请人 | ASM IP控股有限公司 | 发明人 | M·哈平;E·谢罗;C·怀特;F·阿罗扩哉;J·温克勒;T·邓恩 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 李丹丹 |
| 主权项 | 一种反应腔室，包括：用于处理衬底的上部区域；用于加载衬底的下部区域；在所述反应腔室内可移动的承受器；定位在所述承受器周界上的第一密封构件；定位在所述上部区域和所述下部区域之间的第二密封构件；其中，所述第一和第二密封构件有选择地彼此啮合，以限制所述上部区域和所述下部区域之间的连通。 | ||
| 地址 | 荷兰阿尔梅勒 | ||