| 发明名称 |
光阻组成物及用于形成图案之方法;RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN |
| 摘要 |
一种光阻组成物包含：一溶剂；及一于此溶剂中之树脂，此树脂系藉由于一酸或一硷存在中，使含有一与一矽原子或一锗原子结合之烷氧基基团的一含有烷氧基基团之化合物水解及缩合而制备；其中，此光阻组成物以一能量辐射照射之一部份系不溶于一显影溶液。 |
| 申请公布号 |
TW201437763 |
申请公布日期 |
2014.10.01 |
| 申请号 |
TW102141449 |
申请日期 |
2013.11.14 |
| 申请人 |
富士通股份有限公司 |
发明人 |
今纯一;中田义弘 |
| 分类号 |
G03F7/075(2006.01);G03F7/038(2006.01);H01L21/311(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/075(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
<name>恽轶群</name><name>陈文郎</name> |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
