发明名称 深紫外线发光二极体
摘要 本发明提供一种发光二极体,其包含n-型触点层及与该n-型触点层相邻之光生成结构。光生成结构包含一组量子井。触点层及光生成结构可经组态以使n-型触点层之能量与量子井之电子基态能量之间之差大于光生成结构材料中极性光学声子之能量。此外,光生成结构可经组态以使其宽度与注入光生成结构之电子发射极性光学声子之平均自由路径相当。二极体可包含阻挡层,其经组态以使阻挡层之能量与量子井之电子基态能量之间之差大于光生成结构材料中极性光学声子之能量。二极体可包含复合触点,该复合触点包含对光生成结构生成之光至少部分透明之黏合层及经组态以反射光生成结构生成之光之至少一部分之反射性金属层。
申请公布号 TWI455353 申请公布日期 2014.10.01
申请号 TW100121286 申请日期 2011.06.17
申请人 感应电子科技股份有限公司 美国 发明人 格斯卡 雷米吉斯;夏塔洛夫 麦辛S;西尔 麦克
分类号 H01L33/04 主分类号 H01L33/04
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种发光异质结构,其包括:n-型触点层;及光生成结构,其具有与该n-型触点层相邻之第一侧面,该光生成结构包含一组量子井,其中该n-型触点层之能量与在该组量子井中量子井之电子基态能量之间之差大于在该光生成结构材料中极性光学声子之能量,且其中该光生成结构之宽度与注入该光生成结构之电子发射极性光学声子之平均自由路径相当。
地址 美国