晶圆缘部处理方法及设备

摘要

在电浆斜角蚀刻期间，用以补救基板之弧化相关损害的方法及设备。将一电浆屏蔽配置于基板上，以防止两环状接地板之间所产生的电浆到达基板上的外露喷镀金属。此外或另一种方式，在电浆产生期间，可利用无碳之氟化处理源气体及/或可逐渐将RF偏压功率升高，俾以减轻斜角蚀刻中的弧化相关损害。又此外或另一种方式，在斜角蚀刻期间，可将氦及/或氢加至处理源气体以缓和弧化相关损害。

主权项

一种电浆处理系统，具有用以处理一基板之一电浆处理室，该电浆处理系统包含：一RF电源；一下部电极，当该基板存在时用以在该处理期间支撑该基板，该下部电极接收来自该RF电源的至少一RF信号，用以在该处理期间于该电浆处理室内产生一电浆，该基板具有一周边；一第一环状接地电极，当该基板存在时配置于该基板上方及该下部电极上方，该第一环状接地电极不重叠于该下部电极；一第二环状接地电极，当该基板存在时配置于该基板下方，该第二环状接地电极比该第一环状接地电极更加朝向该基板之中央延伸，该第二环状接地电极不延伸于该下部电极下方；及一电浆屏蔽，当该基板存在时配置于至少该基板的一部份之上，该电浆屏蔽在外围被该第一环状接地电极所围绕并且相隔开，该电浆屏蔽不在该第一环状接地电极下方，该电浆屏蔽在处理期间延伸超过该基板之该周边以重叠于该第二环状接地电极的第一部分，其中一垂直视线系定义于该电浆屏蔽的一周边与该第二环状接地电极的第二部分之间。