图案形成方法、感光射线性或感放射线性树脂组成物、感光射线性或感放射线性膜、电子元件的制程及电子元件;METHOD OF FORMING PATTERN, ACTINIC-RAY-OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC-RAY-OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PROCESS FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE

摘要

根据一个实施例，一种图案形成方法包含(a)由感光射线性或感放射线性树脂组成物形成膜；(b)使所述膜曝光；及(c)用含有机溶剂之显影剂使经曝光之所述膜显影，从而形成负型图案。所述感光射线性或感放射线性树脂组成物包含(A)当受酸作用时在所述含有机溶剂之显影剂中之溶解度降低的树脂，所述树脂含有具以下通式(1)之任何内酯结构的重复单元；及(B)在曝露于光射线或放射线时产生酸之化合物。