空白罩体、转印用罩体、空白罩体之制造方法、转印用罩体之制造方法以及半导体元件之制造方法

摘要

提供一种可抑制平坦度恶化之空白罩体、转印用罩体、空白罩体之制造方法、转印用罩体之制造方法、以及使用此转印用罩体之半导体元件之制造方法。系一种于玻璃基板之主表面上具备薄膜之空白罩体，该玻璃基板之氢含量为未达7.4×10 18 分子数/cm 3 ，该薄膜系由含有钽且实质不含氢之材料所构成，且相接于该玻璃基板之主表面而形成。