发明名称 半导体装置;SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要 本发明的一个方式的目的之一是提供一种具有良好的电特性的电晶体等。本发明的一个方式是一种半导体装置,包括:闸极电极;与闸极电极接触的闸极绝缘膜;以及与闸极绝缘膜接触并从离闸极绝缘膜最远的一侧依次包括第一氧化物半导体层、第二氧化物半导体层以及第三氧化物半导体层的多层膜,第一氧化物半导体层、第二氧化物半导体层以及第三氧化物半导体层包含铟、元素M(铝、镓、钇或锡)及锌,第一氧化物半导体层的元素M对铟的原子数比大于第二氧化物半导体层的元素M对铟的原子数比,且第一氧化物半导体层的厚度为20nm以上且200nm以下,第三氧化物半导体层的元素对铟的原子数比大于第二氧化物半导体层的元素M对铟的原子数比,且第三氧化物半导体层的厚度为0.3nm以上且小于10nm。
申请公布号 TW201438243 申请公布日期 2014.10.01
申请号 TW103103936 申请日期 2014.02.06
申请人 半导体能源研究所股份有限公司 发明人 田中哲弘;山根靖正;须泽英臣;松林大介;山崎舜平
分类号 H01L29/78(2006.01);H01L21/336(2006.01) 主分类号 H01L29/78(2006.01)
代理机构 代理人 <name>林志刚</name>
主权项
地址 日本