| 发明名称 | 一种制备纳米多孔结构薄膜的装置及其应用 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种制备纳米多孔结构薄膜的物理气相沉积装置，包括沉积腔（1）、电压源（2）、磁控管（3）、遮蔽屏（4）、衬底传输轨道（5）、遮蔽屏支撑和控制系统（6）、真空泵（7）、以及设置于磁控管（3）上的溅射靶（8）；所述衬底传输轨道（5）用于负载衬底穿过沉积腔（1）；所述磁控管（3）、遮蔽屏（4）以及衬底传输轨道（5）依次平行设置；该装置通过将遮蔽屏设置于衬底和溅射靶之间，利用遮蔽屏阻断部分沉积粒子流，控制沉积粒子流的沉积方向，从而调节薄膜生长的空隙率，实现薄膜空隙率可控生长。 | ||
| 申请公布号 | CN104073774A | 申请公布日期 | 2014.10.01 |
| 申请号 | CN201410124431.9 | 申请日期 | 2014.03.28 |
| 申请人 | 能源X控股有限公司 | 发明人 | 周春明;陈伟;管永锋;徐源 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I;H01L31/0216(2014.01)I;H01L31/18(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人 | 沈振涛 |
| 主权项 | 一种制备纳米多孔结构薄膜的装置，包括沉积腔（1）、电压源（2）、遮蔽屏支撑和控制装置（6）、真空泵（7）以及依次平行设于沉积腔（1）内的磁控管（3）、遮蔽屏（4）、衬底传输轨道（5）；所述电压源（2）与磁控管（3）连接；所述遮蔽屏（4）与遮蔽屏支撑和控制装置（6）连接；所述真空泵（7）与沉积腔（1）连接；所述磁控管（3）上固定有溅射靶（8）。 | ||
| 地址 | 美国内华达州 | ||