成膜装置

摘要

本发明提供一种成膜装置，其能够降低因成膜对象物的位置产生的膜质的偏差。本发明的成膜装置（1）具备向真空腔室（10）内供给原料气体（在此为氧气）的原料气体供给部（30），并且具备对成膜对象物（11）局部地供给比原料气体活化的活化气体的活化气体供给部（40）。其中，通过成膜对象物（11）与沉积部（2）的位置关系，有时在成膜对象物（11）中的一部分中，与其他部分相比供给到膜中的氧变少。对于膜中的氧变少的部分，通过活化气体供给部（40）局部地供给氧的活化气体，从而能够弥补膜中的氧。因此，能够降低因成膜对象物（11）的位置产生的膜中的氧的偏差。综上，能够降低因成膜对象物（11）的位置产生的膜质的偏差。

主权项

一种成膜装置，其在真空腔室内使成膜材料的粒子沉积于成膜对象物，该成膜装置具备：成膜对象物配置部，能够在所述真空腔室内配置所述成膜对象物；沉积部，使所述成膜材料的粒子沉积于所述成膜对象物；原料气体供给部，向所述真空腔室内供给原料气体；及活化气体供给部，对配置于所述成膜对象物配置部的所述成膜对象物局部地供给比所述原料气体活化的活化气体。