| 发明名称 | 等离子体产生单元、包括该单元的基板处理装置及方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种能够调节在腔体内部生成的等离子体密度的等离子体产生单元、包括该单元的基板处理装置及方法。根据本发明的一实施例的基板处理装置包括：提供实施工序的处理空间的腔体；在上述处理空间支撑基板的基板支撑单元；向上述处理空间供给处理气体的气体供给单元；以及根据向上述处理空间供给的处理气体产生等离子体的等离子体产生单元，上述等离子体产生单元具有：设置在上述腔体的上部的天线部件；位于上述天线部件的上部的调节焊盘；以及使上述调节焊盘向上下移动的驱动部件。 | ||
| 申请公布号 | CN104078298A | 申请公布日期 | 2014.10.01 |
| 申请号 | CN201410123775.8 | 申请日期 | 2014.03.28 |
| 申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 具一教;哈鲁琼·梅利基扬;朴胜振;艾玛·达尼埃良;成晓星;李守真 |
| 分类号 | H01J37/305(2006.01)I;H01L37/02(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/305(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 舒艳君;李洋 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，其中，包括：腔体，提供实施工序的处理空间；基板支撑单元，在上述处理空间供以支撑基板；气体供给单元，向上述处理空间供给处理气体；以及等离子体产生单元，根据向上述处理空间供给的处理气体产生等离子体，上述等离子体产生单元具有：天线部件，设置在上述腔体的上部；调节焊盘，位于上述天线部件的上部；以及驱动部件，使上述调节焊盘向上下移动。 | ||
| 地址 | 韩国忠清南道 | ||