发明名称 藉嵌段共聚物之自组装而在一基板上提供具间隔的微影特征之方法;METHODS FOR PROVIDING SPACED LITHOGRAPHY FEATURES ON A SUBSTRATE BY SELF-ASSEMBLY OF BLOCK COPOLYMERS
摘要 本发明揭示一种形成复数个具规则间隔的微影特征之方法,该方法包括:在一基板上之复数个渠沟中提供具有第一嵌段及第二嵌段之一可自组装嵌段共聚物,每一渠沟包括对置侧壁及一基底,其中该等侧壁之间具有一宽度,其中一第一渠沟相比于一第二渠沟具有一较大宽度;使该可自组装嵌段共聚物在每一渠沟中自组装成一有序层,该层具有与该第二嵌段之一第二域交替的该第一嵌段之一第一域,其中该第一渠沟与该第二渠沟具有相同数目个各自各别域;及选择性地移除该第一域以沿着每一渠沟形成具有该第二域之微影特征之具规则间隔的列,其中该第一渠沟中之该等特征之间距大于该第二渠沟中之该等特征之间距。
申请公布号 TW201438114 申请公布日期 2014.10.01
申请号 TW103103651 申请日期 2014.01.29
申请人 ASML荷兰公司 发明人 威斯特 珊德 弗瑞德瑞克;度沙 米尔西亚;卓吉妮雅 塔玛拉
分类号 H01L21/336(2006.01);H01L29/78(2006.01) 主分类号 H01L21/336(2006.01)
代理机构 代理人 <name>林嘉兴</name>
主权项
地址 荷兰