图案形成方法及图案反转膜材料;PATTERN FORMING PROCESS

摘要

本发明提供一种图案形成方法，系在被加工基板上涂布化学增幅型光阻材料，进行预烘烤，对于该光阻膜将高能射线进行图案照射，并进行曝光后加热(PEB)，以有机溶剂显影而获得负型图案，涂布含有选自矽、钛、锆、铪、铝中之元素的溶液，进行预烘烤，实施乾蚀刻，藉此实施使负图案变换为正图案之图像反转； 该化学增幅型光阻材料含有： 对于有机溶剂显影液之溶解速度因酸而下降的树脂、因高能射线之曝光而产生酸之光酸产生剂，及有机溶剂。 依照本发明，能不发生图案之倒塌，而获得高深宽比的点图案等正图案。