薄膜沈积装置与方法;THIN FILM DEPOSITION APPARATUS AND METHOD

摘要

揭露于本发明的是一种薄膜沉积装置。薄膜沉积装置包括：腔室，具有预设的内部空间；基板支撑部件，配置于腔室内并且支撑基板；以及气体供应装置，具有至少一个供应通道以及活化通道，供应通道用以供应处理气体至基板，活化通道含气体活化单元用以活化处理气体其中活化通道具有打开的下部与密封的上部。