发明名称 |
一种分子结构中SiH<sub>2</sub>和SiH<sub>1</sub>比例可控的全氢聚硅氮烷和由其制备的疏水透明高硬度涂层及其合成方法 |
摘要 |
本发明提供了分子结构中SiH<sub>2</sub>和SiH<sub>1</sub>比例可控的全氢聚硅氮烷的合成方法。由该方法制备的全氢聚硅氮烷,SiH<sub>1</sub>与SiH<sub>2</sub>的比例可在4-40范围内调节。在此基础上,本发明提供了采用SiH<sub>2</sub>和SiH<sub>1</sub>比例可控的全氢聚硅氮烷来制备疏水透明高硬度涂层的方法。由该方法制备的涂层,其硬度在8H以上,水接触角在90°以上,可见光透过率90%以上。 |
申请公布号 |
CN104072781A |
申请公布日期 |
2014.10.01 |
申请号 |
CN201410315655.8 |
申请日期 |
2014.07.03 |
申请人 |
中国科学院化学研究所 |
发明人 |
张宗波;徐彩虹;罗永明 |
分类号 |
C08G77/62(2006.01)I;C09D183/16(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;B05D5/08(2006.01)I |
主分类号 |
C08G77/62(2006.01)I |
代理机构 |
北京庆峰财智知识产权代理事务所(普通合伙) 11417 |
代理人 |
刘元霞;谢蓉 |
主权项 |
一种合成分子结构中SiH<sub>1</sub>和SiH<sub>2</sub>比例可控的PHPS的方法,其是以H<sub>2</sub>SiCl<sub>2</sub>和过量的氨为原料,以溶剂为反应介质,在惰性气氛低温情况下进行反应,反应结束后,产物经过滤、浓缩得到所述的PHPS; 其中,所述反应加料顺序依次为溶剂、H<sub>2</sub>SiCl<sub>2</sub>和NH<sub>3</sub>。 |
地址 |
100190 北京市海淀区中关村北一街2号 |