发明名称 导电膜形成用组成物及使用其的导电膜的制造方法;COMPOSITION FOR ELECTROCONDUCTIVE FILM FORMATION AND METHOD OF FORMING ELECTROCONDUCTIVE FILM BY USING THE SAME
摘要 本发明提供一种导电膜形成用组成物及使用其的导电膜的形成方法,导电膜形成用组成物包含具有式(1)所表示的重复单元的聚合物、以及氧化铜粒子及/或铜粒子,且即便在比较低的温度下进行烧,亦可形成显示出优异的导电性的导电膜。;式(1)中,R1及R2分别独立地表示可具有取代基的1价脂肪族烃基、可具有取代基的1价芳香族烃基、烷基氧基、或可具有取代基的胺基,或者R1与R2可键结而形成环。R3表示氢原子、可具有取代基的1价脂肪族烃基、可具有取代基的1价芳香族烃基、烷基氧基、或可具有取代基的胺基,L表示2价连结基。
申请公布号 TW201438028 申请公布日期 2014.10.01
申请号 TW103105756 申请日期 2014.02.21
申请人 富士软片股份有限公司 发明人 渡辺彻
分类号 H01B1/22(2006.01);H01B5/14(2006.01) 主分类号 H01B1/22(2006.01)
代理机构 代理人 <name>叶璟宗</name><name>郑婷文</name><name>詹富闵</name>
主权项
地址 日本