发明名称 |
基板处理装置及方法 |
摘要 |
本发明关于一种基板处理装置及方法,系提供一种不需对常压搬送室施予大型的腐蚀对策,且亦不会使产能降低之基板处理装置。该基板处理装置系设置有用以将基板从装载室不会通过常压搬送室(装载模组)地搬送至储存室之迂回路径。该迂回路径系配置有将处理结束的基板从装载室搬送至储存室的副搬送单元。藉由该副搬送单元来将处理结束的基板从装载室搬送至储存室,而藉由装载模组的主搬送单元来使处理结束的基板从储存室回到载置台的运送容器。 |
申请公布号 |
TWI455231 |
申请公布日期 |
2014.10.01 |
申请号 |
TW099130797 |
申请日期 |
2010.09.13 |
申请人 |
东京威力科创股份有限公司 日本 |
发明人 |
广木勤 |
分类号 |
H01L21/677 |
主分类号 |
H01L21/677 |
代理机构 |
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代理人 |
林秋琴 台北市大安区敦化南路1段245号8楼;何爱文 台北市大安区敦化南路1段245号8楼 |
主权项 |
一种基板处理装置,具有:载置台,系载置有收纳复数个基板之运送容器;减压处理室,系在减压氛围下对基板施予处理;装载室,系与该减压处理室之间进行基板的收授,并可切换于减压氛围与常压氛围;常压搬送室,系具有在常压氛围中将收纳于该运送容器之基板从该载置台搬送至该装载室的主搬送单元;及储存室,系将处理结束的基板维持在较该减压氛围要高压力之氛围中;其特征在于:设置有用以将处理结束的基板从该装载室不会通过该常压搬送室地搬送至该储存室之迂回路径;该迂回路径系配置有将处理结束的基板从该装载室搬送至该储存室的副搬送单元;藉由该常压搬送室的该主搬送单元来将处理结束的基板从该储存室搬送至该载置台的该运送容器。 |
地址 |
日本 |