发明名称 双感测模式之接触感测装置
摘要 本发明揭示一种接触感测装置。该接触感测装置包括一面板,该面板具有经配置成在一第一方向上用作一投影电容滑块之一电容性感测器阵列。该电容性感测器阵列系进一步配置成在一第二方向上用作一组独立的表面电容感测器。藉由一电气组件将一控制器与该面板耦合。
申请公布号 TWI455000 申请公布日期 2014.10.01
申请号 TW097134236 申请日期 2008.09.05
申请人 赛普拉斯半导体公司 美国 发明人 黛纳 琼 欧森
分类号 G06F3/044 主分类号 G06F3/044
代理机构 代理人 蔡清福 台北市中山区中山北路3段27号13楼;蔡驭理 台北市中山区中山北路3段27号13楼
主权项 一种接触感测装置,其包含:一面板,其具有经配置成在与该面板的第一轴对应之一第一方向上作为一投影电容滑块而在与该面板的第二轴对应之一第二方向上作为一组独立的表面电容感测器之电容性感测器之一阵列,以及一控制器,其系藉由一电气组件耦合至该面板,其中该控制器经组态用以在该第一方向上使用该电容性感测器之加性扫描和在该第二方向上使用该电容性感测器之减性扫描来决定该面板上的一多接触结果。
地址 美国