曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法

摘要

本发明之曝光装置，具备以既定投影倍率将光罩(R)之图案投影于基板(W)上之既定曝光区域的投影光学系统(PL)，投影光学系统(PL)之光轴中心与图案所投影之投影区域(33)之中心系设定于相异位置。具备：用以变更投影光学系统之投影倍率的倍率变更装置(LC)；用以算出投影倍率之变更所伴随之投影区域中心之偏移量的算出装置(23)；以及依据投影区域中心之偏移量，修正曝光区域之位置资讯的修正装置。

主权项

一种曝光装置，系使光罩之图案转印于基板上，其特征在于，具备：投影光学系统，系以既定投影倍率将该光罩之图案投影于基板上之既定曝光区域，该图案所投影之投影区域之中心与光轴中心系设定在相异位置；倍率变更装置，用以变更该投影光学系统之投影倍率；算出装置，用以算出该投影倍率之变更所伴随之该投影区域内之既定点之偏移量；以及位置控制装置，控制该光罩与该基板之相对位置；该位置控制装置使用该算出之该既定点之偏移量控制该光罩与该基板之相对位置。