空白光罩（Ｐｈｏｔｏｍａｓｋ ｂｌａｎｋ）或其制造中间体之检查方法，及判定其优劣之方法

摘要

本发明系关于一种空白光罩或其制造中间体之检查方法，系藉由包含(A)测定具有应力检查对象之膜之空白光罩(photomask blank)或其制造中间体之表面形状之步骤、(B)去除检查对象之膜之步骤、及(C)测定经去除检查对象之膜处理基板的表面形状之步骤的处理，获得检查对象之膜去除前之空白光罩或其制造中间体及检查对象之膜去除后之经处理基板两者的表面形状，且藉由比较该等表面形状，评价检查对象之膜所具有之应力。;本发明系使空白光罩之制造方法最适化，可制得在光学机能膜或加工机能膜之蚀刻加工前后产生表面形状变化之顾虑极低之空白光罩的同时，可保证在光罩制造时因表面形状变化引起之尺寸误差发生得以减低之空白光罩。

主权项

一种空白光罩或其制造中间体之检查方法，其为藉由评价构成空白光罩或其制造中间体之膜的应力而检查空白光罩或其制造中间体之方法，其特征为上述空白光罩或其制造中间体系在加工成光罩时，进一步层合其他膜而加工者，且藉由将上述其他膜层合于上述检查对象之膜上，使相当于赋予至上述检查对象之膜之能量的能量预先赋予至上述检查对象之膜后，以包含下列(A)、(B)、(C)之步骤进行处理：(A)测定具有应力检查对象之膜之空白光罩或其制造中间体之表面形状之步骤、(B)去除上述检查对象之膜之步骤、及(C)测定经去除上述检查对象之膜处理基板的表面形状之步骤，藉此获得上述检查对象之膜去除前之空白光罩或其制造中间体及上述检查对象之膜去除后之上述经处理基板两者的表面形状，且藉由比较该等之表面形状，评价上述检查对象之膜所具有的应力。