移动体装置、曝光装置与曝光方法以及元件制造方法

摘要

本发明之装置与方法可将曝光精度维持在高精度。因送电废热框架24A、24B能够总是吸收由晶圆台WST1、WST2所辐射的热，故可抑制晶圆台中产生的热对曝光精度的影响。于此情形时，无须如先前将供给冷却剂的配管(软管)自外部连接至晶圆台，故而可防止因配管张力所导致的晶圆台移动精度的下降，由此而言亦能够将曝光精度维持在高精度。

主权项

一种移动体装置，包括：移动体，具有放热部；驱动装置，用以于特定面内对该移动体进行二维驱动；以及废热部件，设置成与上述移动体非接触，且吸收自上述移动体所辐射的热，上述废热部件及上述放热部的其中之一方设置成遍及上述一轴方向上的特定范围，且其中另一方设置成遍及上述特定面内与上述一轴方向垂直的方向上的特定范围。