发明名称 氮面氮化镓绒面太阳能电池及其制作方法
摘要 本发明公开了一种氮面氮化镓绒面太阳能电池及其制作方法,主要解决现有太阳电池效率低,成本高问题。其自下而上包括:蓝宝石衬底(1)、AlN缓冲层(2)、外延层(3)、阴极(4)、有机聚合物层(5)和阳极(6)。其中,AlN缓冲层(2)采用MOCVD生长,厚度为150-200nm;外延层(3)为采用MOCVD生长的厚度为2-3μm、电子浓度为1.0×10<sup>17</sup>cm<sup>-3</sup>-2.0×10<sup>18</sup>cm<sup>-3</sup>的氮面n-GaN,且与有机聚合物(5)的接触面为布满凹陷的绒面,凹陷密度为1.0×10<sup>7</sup>cm<sup>-2</sup>-4.0×10<sup>8</sup>cm<sup>-2</sup>,深度为450nm-1.5μm;阴极(4)是在氮面n-GaN层上淀积Ti和Al形成;有机聚合物(5)由在氮面n-GaN表面旋涂而成,其厚度为50-80nm;阳极(6)是在机聚合物(5)上淀积Au形成。本发明工艺简单、成本低,光电转换效率高,可用于商用和民用的发电系统。
申请公布号 CN102569655B 申请公布日期 2014.10.01
申请号 CN201210010844.5 申请日期 2012.01.14
申请人 西安电子科技大学 发明人 冯倩;李倩;郝跃;邢涛;王强
分类号 H01L51/42(2006.01)I;H01L51/46(2006.01)I;H01L51/48(2006.01)I 主分类号 H01L51/42(2006.01)I
代理机构 陕西电子工业专利中心 61205 代理人 王品华;朱红星
主权项 一种氮面氮化镓绒面混合太阳能电池的制作方法,包括如下步骤:(1)在蓝宝石衬底上采用MOCVD方法生长厚度为150‑200nm的AlN缓冲层;(2)在AlN缓冲层上采用MOCVD方法生长厚度为2‑3μm、电子浓度为1.0×10<sup>17</sup>cm<sup>‑3</sup>‑2.0×10<sup>18</sup>cm<sup>‑3</sup>的氮面n‑GaN外延层;(3)将生长氮面n‑GaN外延层后的样品依次放入丙酮、无水乙醇中分别超声清洗3min,重复2次后用去离子水超声清洗10‑15min;(4)在烧杯中加入浓度为15%‑25%的KOH溶液,用万用加热炉加热至70‑90℃,用热偶测温计测温并随时控制万用加热炉,待溶液温度保持平衡3‑5min后,将清洗后的样品放入KOH溶液中进行表面腐蚀10‑20min,使氮面n‑GaN层与有机聚合物层的接触面处形成布满凹陷的绒面结构,该凹陷的密度为1×10<sup>7</sup>cm<sup>‑2</sup>‑4×10<sup>8</sup>cm<sup>‑2</sup>、深度为450nm‑1.5μm,待样品冷却后用去离子水进行冲洗;(5)将表面绒面化后的样品放入热蒸发台中,在氮面n‑GaN层上依次淀积20nm的Ti和80nm的Al,并在600℃的热退火炉中退火1min,构成阴极;(6)将退火后的样品放在甩胶机上,在氮面n‑GaN层表面旋涂一层厚度为50‑80nm、经过直径为450nm过滤器过滤的有机聚合物,以2500‑3500rpm转数,旋转50‑90s后,再将样品放在120℃下的热板上烘烤10min,使有机膜与绒面化后的氮面n‑GaN层形成良好的肖特基接触;(7)将完成上述制备流程的样品放入热蒸发台中淀积一层厚度为100nm的Au与有机聚合物层形成肖特基接触构成器件的阳极,完成绒面混合太阳能电池的制作。
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