| 摘要 |
本发明揭示一种用于电浆处理设备之基板承载件,其包含:底板总成,其包含在使用时可将基板放置于其上之平台,在使用时由放置在该平台上之基板所占据的体积系构成基板区域;以及位在该底板总成上之顶板总成,该顶板总成包含顶板及一个或多个保持构件,该顶板具有贯穿其间且围绕该基板区域之孔隙,该一个或多个保持构件系延伸至该孔隙中并位于该基板区域之一部分上,使得在使用时,安置在该基板区域中之基板系被保持在该底板总成与该顶板总成之间的固定位置。背向该底板总成之该顶板的上表面系本质上呈平面状,且该一个或多个保持构件系突出于该顶板之该本质上呈平面状的上表面之上。 |
