| 发明名称 |
用于空间分离原子层沉积的设备及制程遏制;APPARATUS AND PROCESS CONTAINMENT FOR SPATIALLY SEPARATED ATOMIC LAYER DEPOSITION |
| 摘要 |
兹提供包括气体分配板的原子层沉积设备和方法，气体分配板包含复数个细长(elongate)气体埠口，且具沿着气体分配板外部长度延伸的气体帘幕(gas curtain)。亦提供包括气体分配板的原子层沉积设备和方法，气体分配板具有复数个具气体帘幕的细长气体埠口。 |
| 申请公布号 |
TW201437426 |
申请公布日期 |
2014.10.01 |
| 申请号 |
TW103104765 |
申请日期 |
2014.02.13 |
| 申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
邝光祖;尤都史凯约瑟夫;马可士史帝芬Ｄ |
| 分类号 |
C23C16/54(2006.01);C23C16/455(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/54(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
<name>蔡坤财</name><name>李世章</name> |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 |
