| 发明名称 |
用于有机抗反射膜的共聚合物、单体以及包含该共聚合物的组成物 |
| 摘要 |
揭露一种用于有机抗反射膜之共聚合物，含有由下式(1)表示之重复单元；所述共聚合物之单体；以及包括所述共聚合物之有机抗反射膜组成物：;[化学式1];其中在式(1)中，R1、R2、R3、A、m以及n分别具有与本发明详细描述中所定义者相同之含义。包括用于有;机抗反射膜之共聚合物的有机抗反射膜组成物具有增加之折射率且当制成抗反射膜时展现极佳效果，且可调节由所述组成物产生之涂膜的亲水性以及疏水性，以便可获得与抗蚀剂之极佳相容性。 |
| 申请公布号 |
TWI454538 |
申请公布日期 |
2014.10.01 |
| 申请号 |
TW101114781 |
申请日期 |
2012.04.25 |
| 申请人 |
锦湖石油化学股份有限公司 南韩 |
发明人 |
李镇翰;裵信孝;洪承姬;韩恩熙 |
| 分类号 |
C09D133/04;C09D135/02;G02B1/11 |
主分类号 |
C09D133/04 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
| 主权项 |
一种用于有机抗反射膜之共聚合物，包含由下述式(1)表示之重复单元：其中在所述式(1)中，R1表示由氢原子、具有1至10个碳原子之烷基以及具有1至6个碳原子之杂烷基所组成之族群中选出的任一者；R2表示由CR'R"、NR'、O以及S所组成之族群中选出的任一者；R'以及R"各独立地表示由氢原子以及具有1至5个碳原子之烷基所组成之族群中选出的任一者；R3为由以下述式(1-1)至下述式(1-8)表示之基团所组成之族群中选出的任一者；m以及n满足以下关系：m+n=1，0.05<m/(m+n)<0.95且0.05<n/(m+n)<0.95；且A表示下述式(2)或下述式(3)：其中在所述式(2)中，R4表示由氢原子以及具有1至10个碳原子之烷基所组成之族群中选出的任一者；R5表示由氢原子、烷基、杂烷基、环烷基、杂环烷基、芳基、杂芳基、芳基烷基以及杂芳基烷基所组成之族群中选出的任一者，其中R5中所含之至少一个氢原子经由羟基、羧基、卤素原子、氰基、硝基以及其组合所组成之族群中选出的任一者取代；以及其中在所述式(3)中，R6表示由氢原子、烷基、环烷基、杂烷基以及环杂烷基所组成之族群中选出的任一者；其中在所述式(1-1)至所述式(1-8)中，X11、X21、X22、X31、X32、X33、X51、X52、X61、X62、X71、X72、X73、X81以及X82各独立地表示由卤素原子、氰基、硝基、苯基以及全氟烷基所组成之族群中选出的任一者；R'''表示由氢原子以及甲基所组成之族群中选出的任一者；X41表示卤素原子；a表示1至3之整数；b表示1至3之整数，总和a+b为3；X63表示由O、NR'、S以及CO所组成之族群中选出的任一者；p11表示1至5之整数；p21以及p22各独立地表示1至4之整数，p21与p22之总和不超过5；p31至p33各独立地表示1至3之整数，p31至p33之总和不超过5；p41表示1至5之整数；p51以及p52各独立地表示1至5之整数，p51与p52之总和不超过9；p61以及p62各独立地表示1至5之整数，p61与p62之总和不超过9；p71以及p73各独立地表示1至5之整数，p72表示1至2之整数，p71至p73之总和不超过9；p81表示1至4之整数；p82表示1至3之整数；且p81与p82之总和不超过6。 |
| 地址 |
南韩 |
