发明名称 |
电路连接用接着膜及其用途、电路连接构造体及其制造方法、以及电路构件的连接方法 |
摘要 |
本发明是有关于一种电路连接用接着膜,该电路连接用接着膜包括:含有接着剂组成物及导电粒子的导电性接着剂层、与含有接着剂组成物且不含有导电粒子的绝缘性接着剂层,绝缘性接着剂层的厚度Ti与导电性接着剂层的厚度Tc满足下述式(1)的关系。;Ti/Tc≧1.5...(1) |
申请公布号 |
TWI455152 |
申请公布日期 |
2014.10.01 |
申请号 |
TW100120185 |
申请日期 |
2011.06.09 |
申请人 |
日立化成股份有限公司 日本 |
发明人 |
杜晓黎;佐藤和也 |
分类号 |
H01B5/14;H01R4/04 |
主分类号 |
H01B5/14 |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
主权项 |
一种电路连接用接着膜,包括:导电性接着剂层,含有接着剂组成物及导电粒子;以及绝缘性接着剂层,含有接着剂组成物且不含有导电粒子,上述绝缘性接着剂层的厚度Ti与上述导电性接着剂层的厚度Tc满足下述式(1)的关系,6.5≧Ti/Tc≧2.6...(1)上述电路连接用接着膜用于在使第1电路电极及第2电路电极相对向的状态下,将第1电路构件与作为第2电路构件的半导体元件予以电性连接,其中上述第1电路构件在厚度为0.3mm以下的作为第1电路基板的玻璃基板的主面上形成有上述第1电路电极,上述第2电路构件在厚度为0.3mm以下的第2电路基板的主面上形成有上述第2电路电极。 |
地址 |
日本 |