Ein Gruppe III-N-Nanodraht ist auf einem Substrat angeordnet. Eine Längsrichtung des Nanodrahts ist in einer Kanalregion eines ersten Gruppe III-N-Materials definiert, eine Quellenregion ist elektrisch mit einem ersten Ende der Kanalregion gekoppelt, und eine Senkenregion ist elektrisch mit einem zweiten Ende der Kanalregion gekoppelt. Ein zweites Gruppe III-N-Material auf dem ersten Gruppe III-Material dient als ladungsinduzierende Schicht und/oder Barriereschicht auf Flächen des Nanodrahts. Ein Gate-Isolator und/oder Gate-Leiter sind koaxial komplett um den Nanodraht in der Kanalregion gewickelt. Senken- und Quellenkontakte können in ähnlicher Weise komplett um die Senken- und Quellenregionen gewickelt sein.
申请公布号
DE112011105945(T5)
申请公布日期
2014.09.25
申请号
DE201111105945T
申请日期
2011.12.19
申请人
INTEL CORPORATION
发明人
THEN, HAN WUI;CHAU, ROBERT;CHU-KUNG, BENJAMIN;KAVALIEROS, JACK;METZ, MATTHEW V.;MUKHERJEE, NILOY;RADOSAVLJEVIC, MARKO;DEWEY, GILBERT;PILLARISETTY, RAVI