Verfahren und Einrichtung zur Herstellung mikrostrukturierter Gitterplatten mit hohem Aspektverhältnis

摘要

Die Erfindung betrifft Verfahren und Einrichtungen zur Herstellung mikrostrukturierter Gitterplatten mit hohem Aspektverhältnis und Verwendungen von mikrostrukturierten Gitterplatten. Diese zeichnen sich insbesondere dadurch aus, dass mikrostrukturierte Gitterplatten einfach und ökonomisch günstig realisierbar sind. Dazu werden nacheinander folgend Pulverschichten mittels einer mindestens einfach befüllten rhombusförmigen Ringrakel auf eine Bauplattform aufgebracht, wobei die Ringrakel mit einem Mechanismus diagonal über die Bauplattform bewegt wird. Die bei der diagonalen Bewegung der Ringrakel frei werdenden Streifen der jeweils aufgetragenen Pulverschicht werden mit Laserstrahlen zweier Laser während der Bewegung der Ringrakel beaufschlagt, wobei die beiden Laserstrahlen jeweils mit einem Scanner geradlinig über die Pulverschicht geführt werden und Pulver zu Stegen des Gitters sintert. Die wenigstens eine Gitterplatte wird nachfolgend von der Bauplattform durch Erodieren getrennt und gereinigt.