| 发明名称 |
Target für einen physikalischen Gasphasenabscheidungsprozess, Targetanordnung und Sputterbeschichtungsanordnung |
| 摘要 |
<p>Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Targetanordnung (100) für einen physikalischen Gasphasenabscheidungsprozess Folgendes aufweisen: ein Target (102) mit mindestens einem Loch (104) zum Aufnehmen eines Teils einer Targethalterstruktur (206); und die Targethalterstruktur (206), welche das Target (102) hält, wobei zumindest ein Teil der Targethalterstruktur (206) in dem mindestens einen Loch (104) aufgenommen ist.</p> |
| 申请公布号 |
DE102013102851(A1) |
申请公布日期 |
2014.09.25 |
| 申请号 |
DE201310102851 |
申请日期 |
2013.03.20 |
| 申请人 |
VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH |
发明人 |
MOSSHAMMER, STEFFEN;TEICHERT, BERND |
| 分类号 |
C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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