发明名称 |
薄膜电容和齐纳二极管的复合电子部件及其制造方法 |
摘要 |
复合电子部件(100)的特征在于:具备由Si基板(1)、薄膜电容(8)、Si基板(1)和半导体薄膜层(13)构成的齐纳二极管(14),Si基板(1)的载流子浓度比半导体薄膜层(13)的载流子浓度小。 |
申请公布号 |
CN104067376A |
申请公布日期 |
2014.09.24 |
申请号 |
CN201480000577.0 |
申请日期 |
2014.01.20 |
申请人 |
株式会社村田制作所 |
发明人 |
野村雅信;竹岛裕 |
分类号 |
H01L21/329(2006.01)I;H01L29/861(2006.01)I;H01L29/866(2006.01)I;H01L29/868(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/329(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
舒艳君;李洋 |
主权项 |
一种薄膜电容和齐纳二极管的复合电子部件,具备:Si基板,其具有n型导电性或p型导电性,由单晶体或多晶体构成;电极层,其形成在所述Si基板上,由贵金属电极材料或导电性氧化物材料构成;薄膜电容,其通过由钙钛矿型介电材料构成的电介体层叠而成;以及齐纳二极管,其形成在所述Si基板上的与形成所述薄膜电容的区域不同的区域,由具有与所述Si基板相反的导电性的半导体薄膜层构成,与所述Si基板形成p-n结,所述薄膜电容和齐纳二极管的复合电子部件的特征在于,所述Si基板的载流子浓度比所述半导体薄膜层的载流子浓度小。 |
地址 |
日本京都府 |