用于制作彩膜基板的彩膜单元的掩膜版和方法

摘要

本发明提供一种用于制作彩膜基板的彩膜单元的掩膜版，所述掩膜版上形成有：光线能够完全通过的无遮挡区，对应于正性光刻胶上的包围待形成所述彩膜单元的彩膜单元形成区的第一区域；光线能够部分通过的至少一个部分遮挡区，对应于正性光刻胶上的第二区域，所述第二区域属于所述彩膜单元形成区的一部分，且与所述第一区域共边邻接；光线完全无法通过的完全遮挡区，对应于正性光刻胶上的第三区域，所述第三区域属于所述彩膜单元形成区的另一部分；所述第二区域和第三区域中保留的光刻胶形成所述彩膜单元。本发明还提供一种制作彩膜基板的彩膜单元的方法。本发明的有益效果是：通过部分遮挡区的设置，控制曝光强度以减小角段差。

主权项

一种用于制作彩膜基板的彩膜单元的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版上形成有：光线能够完全通过的无遮挡区，对应于正性光刻胶上的包围待形成所述彩膜单元的彩膜单元形成区的第一区域；光线能够部分通过的至少一个部分遮挡区，对应于正性光刻胶上的第二区域，所述第二区域属于所述彩膜单元形成区的一部分，且与所述第一区域共边邻接；光线完全无法通过的完全遮挡区，对应于正性光刻胶上的第三区域，所述第三区域属于所述彩膜单元形成区的另一部分；所述第二区域和第三区域中保留的光刻胶形成所述彩膜单元。