一种新型磁控轴瓦溅镀机

摘要

本发明公开了一种新型磁控轴瓦溅镀机，涉及溅渡装置技术领域，包括溅渡壳体，溅渡壳体内设有溅渡腔，溅渡腔设有溅射靶支撑架和轴瓦支撑架，溅渡壳体底部设有底座，溅射靶支撑架和轴瓦支撑架设置在溅渡壳体底部底座上，溅射靶支撑架中间设有溅射靶架轴，溅射靶架轴底部设有旋转环，旋转环通过连接杆与溅射靶架轴一侧的溅射靶支撑架边缘连接,溅渡壳体最下方设有电机，旋转环与电机输出轴相连接，溅射靶架轴两侧的溅射靶支撑架各活动设有一块溅射靶，溅射靶的双面设有凹槽，正面凹槽的底面为镍靶、背面凹槽的底面合金靶，通过两面靶，解决以往受降温以及更换靶材等步骤制约，增加了工作产量、提高了效率。

主权项

一种新型磁控轴瓦溅镀机，包括溅渡壳体（1），溅渡壳体（1）内设有溅渡腔（2），所述溅渡腔（8）设有溅射靶支撑架（3）和轴瓦支撑架（4），所述溅渡壳体（1）底部设有底座（7），其特征在于：所述溅射靶支撑架（3）和所述轴瓦支撑架（4）设置在溅渡壳体（1）底部底座（7）上，所述溅射靶支撑架（3）中间设有溅射靶架轴（10），所述溅射靶架轴（10）底部设有旋转环（11），所述旋转环（11）通过连接杆（6）与溅射靶架轴（10）一侧的溅射靶支撑架（3）边缘连接,所述溅渡壳体（1）最下方设有电机，所述旋转环（11）与所述电机输出轴相连接。