发明名称 |
晶圆双面研磨设备 |
摘要 |
本实用新型公开了一种晶圆双面研磨设备,包括研磨盘,研磨盘底部中心处设有驱动装置一,驱动装置一底部设有滑块,滑块安装于滑轨上,研磨盘上表面设有研磨布,研磨盘上方设有研磨头和研磨剂供给装置,研磨头上部中心处设有驱动装置二,研磨头底部通过伸缩支杆连接有衬垫,研磨头底部周圈设有限位环,限位环、衬垫以及研磨盘围成的封闭空间内设有工件,研磨头上方依次叠设有冷却液回收盘和冷却液供给盘,冷却液供给盘通过输出泵连接一输出管,输出管另一端连接设于限位环内的冷却通道,冷却通道上还通过回流管连接至冷却液回收盘,冷却液回收盘与冷却液供给盘通过管道连通。本实用新型降低了限位环周围的温度,保证研磨的均匀性。 |
申请公布号 |
CN203843664U |
申请公布日期 |
2014.09.24 |
申请号 |
CN201420276319.2 |
申请日期 |
2014.05.27 |
申请人 |
周贵英 |
发明人 |
周贵英 |
分类号 |
B24B37/08(2012.01)I;B24B37/34(2012.01)I |
主分类号 |
B24B37/08(2012.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种晶圆双面研磨设备,其特征在于:包括研磨盘(1),所述研磨盘(1)底部中心处设有驱动装置一(2),所述驱动装置一(2)底部设有滑块(18),所述滑块(18)安装于滑轨(19)上,所述研磨盘(1)上表面设有研磨布(3),所述研磨盘(1)上方设有研磨头(4)和研磨剂供给装置(5),所述研磨头(4)上部中心处设有驱动装置二(20),所述研磨头(4)底部通过伸缩支杆连接有衬垫(6),所述研磨头(4)底部周圈设有限位环(7),所述限位环(7)、衬垫(6)以及研磨盘(1)围成的封闭空间内设有工件(8),所述研磨头(4)上方依次叠设有冷却液回收盘(9)和冷却液供给盘(10),所述冷却液供给盘(10)通过输出泵(11)连接一输出管(12),所述输出管(12)另一端连接设于限位环(7)内的冷却通道(13),所述冷却通道(13)上还通过回流管(14)连接至冷却液回收盘(9),所述冷却液回收盘(9)与冷却液供给盘(10)通过管道(15)连通。 |
地址 |
315100 浙江省宁波市鄞州区姜山镇茅山居民会 |