发明名称 | 半导体装置和制造方法 | ||
摘要 | 一种半导体装置,包括:第一基板,具有暴露第一电极和第一绝缘膜的接合表面;绝缘薄膜,覆盖该第一基板的该接合表面;以及第二基板,具有暴露第二电极第二绝缘膜的接合表面,在该第二基板的该接合表面和该第一基板的该接合表面接合在一起并在该第二基板的该接合表面和该第一基板的该接合表面之间夹设该绝缘薄膜的状态下该第二基板接合到该第一基板,该第一电极和该第二电极将该绝缘薄膜的一部分变形并且破坏以使该第一电极和该第二电极彼此直接电连接。还公开了半导体装置的制造方法。 | ||
申请公布号 | CN104064574A | 申请公布日期 | 2014.09.24 |
申请号 | CN201410095150.5 | 申请日期 | 2014.03.14 |
申请人 | 索尼公司 | 发明人 | 藤井宣年;萩本贤哉;青柳健一;香川惠永 |
分类号 | H01L27/146(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/146(2006.01)I |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 焦玉恒 |
主权项 | 一种半导体装置,包括:第一基板,具有暴露第一电极和第一绝缘膜的接合表面;绝缘薄膜,覆盖该第一基板的该接合表面;以及第二基板,具有暴露第二电极和第二绝缘膜的接合表面,在该第二基板的该接合表面和该第一基板的该接合表面接合在一起并在该第二基板的该接合表面和该第一基板的该接合表面之间夹设该绝缘薄膜的状态下该第二基板接合到该第一基板,该第一电极和该第二电极将该绝缘薄膜的一部分变形并且破坏以使该第一电极和该第二电极彼此直接电连接。 | ||
地址 | 日本东京都 |