发明名称 一种光纤表面金属化方法
摘要 本发明提供一种光纤表面金属化方法,包括如下步骤:(1)通过磁控溅射在所述光纤表面上形成粘接层;(2)通过磁控溅射在所述粘接层表面上形成导电层;以及(3)通过电镀在所述导电层表面上形成保护层。本发明的光纤表面金属化方法,采用磁控溅射在光纤表面依次形成粘接层和导电层,所得膜层密度高、针孔少、纯度高,膜厚可控性和重复性好,膜层与光纤之间的附着性好,并且磁控溅射在无水环境中进行,也无化学镀的粗化、敏化等过程,因此对光纤损伤小;磁控溅射后采用电镀增厚形成保护层,在高温条件下也能对光纤进行有效保护,提高了光纤的机械可靠性和使用寿命。
申请公布号 CN102758203B 申请公布日期 2014.09.24
申请号 CN201210264918.8 申请日期 2012.07.27
申请人 华东理工大学 发明人 徒芸;涂善东;韩鹏;齐一华;张显程;轩福贞
分类号 C23C28/02(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C25D3/12(2006.01)I 主分类号 C23C28/02(2006.01)I
代理机构 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人 邓琪
主权项 一种光纤表面金属化方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)通过磁控溅射钛或铬在所述光纤表面上形成粘接层;(2)通过磁控溅射银、金或钼在所述粘接层表面上形成导电层;以及(3)通过电镀在所述导电层表面上形成保护层。
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