发明名称 III族氮化物基化合物半导体发光器件及其制造方法
摘要 本发明的目的是改善多量子阱结构的III族氮化物基化合物半导体发光器件的光提取效率。所述器件包括多量子阱结构,所述多量子阱结构包括阱层,其包括组成中至少具有In的半导体;保护层,其包括组成中至少具有Al和Ga的半导体,其带隙大于所述阱层的带隙,并且其接触并形成在所述阱层的正电极侧上。所述器件还包括势垒层,其带隙大于所述阱层的带隙并且小于所述保护层的带隙,并且其接触并形成在所述保护层的正电极侧上;和所述阱层、所述保护层和所述势垒层的周期性结构。
申请公布号 CN102077370B 申请公布日期 2014.09.24
申请号 CN200980124817.7 申请日期 2009.09.17
申请人 丰田合成株式会社 发明人 奥野浩司
分类号 H01L33/00(2006.01)I 主分类号 H01L33/00(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 蔡胜有;顾晋伟
主权项 一种具有多量子阱结构的III族氮化物基化合物半导体发光器件,所述多量子阱结构包括:阱层,其包括组成中至少具有In的半导体;第一保护层,其带隙大于所述阱层的带隙,并且其形成在所述阱层的正电极侧之上;第二保护层,其包括组成中至少具有Al的半导体,所述第二保护层的带隙大于所述第一保护层的带隙,并且所述第二保护层形成在所述第一保护层的正电极侧之上;势垒层,其带隙大于所述第一保护层的带隙并且小于所述第二保护层的带隙,并且其形成在所述第二保护层的正电极侧之上;和所述阱层、所述第一保护层、所述第二保护层和所述势垒层的周期性结构,其中所述第一保护层的厚度等于或大于<img file="FSB0000123799610000012.GIF" wi="84" he="66" />并且小于或等于<img file="FSB0000123799610000011.GIF" wi="107" he="68" />,所述第二保护层的厚度等于或大于<img file="FSB0000123799610000014.GIF" wi="84" he="65" />并且小于或等于<img file="FSB0000123799610000013.GIF" wi="108" he="66" />,所述第一保护层和所述第二保护层的厚度之和小于或等于<img file="FSB0000123799610000015.GIF" wi="107" he="66" />。
地址 日本爱知县