一种用于提高磁控溅射膜均匀性的工艺气管

摘要

本实用新型提供一种用于提高磁控溅射膜均匀性的工艺气管，所述的工艺气管由若干组气嘴组件构成，气嘴组件通过气嘴管连接在四通接头上，四通接头通过气管连接在气源上。本实用新型的优点在于：结构简单、操作方便，可全方位调整气嘴角度，且溅射效果好、使用寿命长。

主权项

一种用于提高磁控溅射膜均匀性的工艺气管，其特征在于：所述的工艺气管由若干组气嘴组件（3）构成，气嘴组件（3）通过气嘴管（5）连接在四通接头（4）上，四通接头（4）通过气管（2）连接在气源（1）上；气嘴组件（3）包括有气嘴（6）、旋转管（7）、旋转座（8）、气嘴接头（9），其中，气嘴接头（9）通过气嘴管（5）连接在四通接头（4）上，旋转座（8）固装在气嘴接头（9），旋转管（7）底部套装在旋转座（8）内，旋转管（7）顶部与气嘴（6）连接。