高清晰度加热器和操作方法

摘要

本发明提供了一种设备，举例而言，在半导体加工设备中使用的加热器，其包括具有至少一个功能区的基底功能层。衬底被固定到基底功能层上，且调谐层被固定到衬底上，与基底功能层相对。所述调谐层包括多个区域，数目大于基底功能层的区域，且调谐层的功率低于基底功能层。此外，部件，诸如，举例而言，夹盘，被固定在调谐层上，与衬底相对。所述衬底限定热导率，以耗散所需量的基底功能层的功率。

主权项

一种设备，其包含：包含至少一个功能区的基底功能层；被固定到所述基底功能层上的衬底；被固定到所述衬底上、与所述基底功能层相对的调谐层，所述调谐层包含多个区域，其数目大于所述基底功能层的区域，且所述调谐层的功率低于所述基底功能层；以及被固定在所述调谐层上与所述衬底相对的部件，其中所述衬底限定热导率，以耗散所需量的基底功能层的功率。