发明名称 真空渗碳方法
摘要 本发明提供即能防止斑点状过量渗碳发生又能对被处理物进行高品质渗碳的真空渗碳方法。该方法通过向减压气体氛围的渗碳室3喷射渗碳气体来对置于渗碳室3中的被处理物2进行渗碳。该方法包括:气体喷射量确定步骤(S3),以使对被处理物2的渗碳有用的气体消耗量,相对于喷射至渗碳室3中的渗碳气体量的比例(渗碳气体利用率)包含在可抑制斑点状过量渗碳发生的范围;确定气体喷射时间及喷射停止时间的气体喷射周期确定步骤(S4),以使被处理物2的表面碳浓度保持在小于可抑制斑点状过量渗碳发生的浓度上限值状态;气体喷射步骤(S5),是基于步骤S4确定的气体喷射时间及喷射停止时间来间歇喷射步骤S3确定的气体喷射量的渗碳气体。
申请公布号 CN102002663B 申请公布日期 2014.09.24
申请号 CN201010266292.5 申请日期 2010.08.26
申请人 加特可株式会社;日产自动车株式会社 发明人 冈本宗幸;太田利一;井上信彦;伊藤隆彦
分类号 C23C8/20(2006.01)I;C23C8/22(2006.01)I 主分类号 C23C8/20(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 张平元
主权项 一种真空渗碳方法,该方法是通过向减压气体氛围的渗碳室中喷射渗碳气体来对设置在所述渗碳室中的被处理物进行渗碳的真空渗碳方法,其中,间歇喷射所述渗碳气体,使渗碳气体利用率E(%)、所述被处理物的总表面积A(m<sup>2</sup>)、流量值F(g/m<sup>2</sup>)、渗碳气体喷射时间T(hr)、所述渗碳气体的碳原子的摩尔数n(mol)、碳原子量C(=12.01g/mol)、标准状态下每单位时间的气体喷射量V(NL/hr)满足下式:<maths num="0001" id="cmaths0001"><math><![CDATA[<mrow><mi>E</mi><mrow><mo>(</mo><mo>%</mo><mo>)</mo></mrow><mo>=</mo><mn>22.4</mn><mo>&times;</mo><mfrac><mrow><mi>A</mi><mo>&times;</mo><mi>F</mi></mrow><mrow><mi>T</mi><mo>&times;</mo><mi>n</mi><mo>&times;</mo><mi>C</mi><mo>&times;</mo><mi>V</mi></mrow></mfrac><mo>&times;</mo><mn>100</mn><mo>,</mo></mrow>]]></math><img file="FSB0000125525130000011.GIF" wi="700" he="120" /></maths>所述渗碳气体利用率为实际贡献于所述被处理物的渗碳的气体消耗量相对于喷射至所述渗碳室中的所述气体喷射量的比例,确定所述渗碳气体的气体喷射时间及气体喷射停止时间,以使所述被处理物的表面碳浓度保持小于最大固溶浓度的状态,所述渗碳气体利用率E满足下式:15≤E≤25。
地址 日本静冈县