发明名称 |
湿刻蚀设备及方法 |
摘要 |
本发明涉及液晶显示器制造领域,提出了一种湿刻蚀设备,其包括:能够喷淋刻蚀液的喷淋装置;能够存储刻蚀液的储液槽;以及用于夹持待刻蚀的玻璃基板的夹持机构,其中,所述夹持机构能够沿所述储液槽的深度方向运动,并相应地带动所述玻璃基板沿所述储液槽的深度方向运动。本发明还提出了相应的方法。以此方式,在根据本发明的设备和方法中,可以对玻璃基板同时进行或选择性地进行两种湿刻蚀的模式,且每种模式刻蚀力度可控。 |
申请公布号 |
CN104064456A |
申请公布日期 |
2014.09.24 |
申请号 |
CN201410276096.4 |
申请日期 |
2014.06.19 |
申请人 |
深圳市华星光电技术有限公司 |
发明人 |
柴立 |
分类号 |
H01L21/306(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/306(2006.01)I |
代理机构 |
北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 |
代理人 |
吴大建;刘华联 |
主权项 |
一种湿刻蚀设备,其特征在于,包括:能够喷淋刻蚀液的喷淋装置;能够存储刻蚀液的储液槽;以及用于夹持待刻蚀的玻璃基板的夹持机构,所述夹持机构与所述储液槽的侧壁内壁相邻地设置,并使得所述玻璃基板的具有光学膜层的一侧能够承接来自所述喷淋装置的刻蚀液,其中,所述夹持机构能够沿所述储液槽的深度方向运动,并相应地带动所述玻璃基板沿所述储液槽的深度方向运动。 |
地址 |
518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号 |