用于通过低温流体射流进行表面处理的设备和方法

摘要

本发明涉及采用一股或更多股低温高压流体射流的工作设备，包括：与运动工具(4)连接的低温流体源(1)，运动工具(4)包括用于分配低温高压流体射流的流体分配喷嘴(11)，以及布置在运动工具(4)周围并与抽吸装置(25)连接的第一和第二保护包壳。设备还包括气体密封装置(23)，其适合于并设计成构成两个保护包壳(20、23)之间的至少一个气体保护屏障，由于将干燥气体供应到第二包壳(23)内从而形成该气体保护屏障。本发明还涉及用于使用该设备的方法以及使用该设备通过低温高压流体对材料进行表面处理、清洗或剥离的方法。

主权项

一种使用至少一股低温高压流体射流的工作设备，包括：‑与运动工具（4）流体连接的低温流体源（1），运动工具（4）包括一个或更多个用于分配一股或更多股所述低温高压流体射流的流体分配喷嘴（11），和‑安装在运动工具（4）周围并与抽吸装置（25）流体连接的第一保护包壳（20），所述第一保护包壳（20）包括位于流体分配喷嘴（11）的旁边的下部开口端，从而形成围绕运动工具（4）的抽吸罩，其特征在于，所述设备还包括气态密封装置，所述气态密封装置适合于并设计成构成至少在第一保护包壳（20）的下端处和在所述第一保护包壳（20）的周边的至少一部分上的至少一个气态保护屏障，所述气态密封装置至少包括：‑第二保护包壳（23），其围绕第一保护包壳（20）的至少一部分布置并且在第一保护包壳（20）的下端开口，和‑与所述第二保护包壳（23）流体连接的干燥气体供应装置（26、27），从而将所述干燥气体供应到所述第二保护包壳（23）内部。