发明名称 半导体封装件及其制法
摘要 一种半导体封装件,系包括:具有相对之第一与第二表面及侧面的介电层;铜材之线路层,系形成于该介电层之第一表面上,该线路层具有延伸垫;表面处理层,系形成于该线路层上;半导体晶片,系设于该线路层上并电性连接该表面处理层;以及形成于该介电层之第一表面上之封装胶体,系包覆该半导体晶片、线路层及表面处理层,且外露该介电层之第二表面,又该介电层之侧面与该封装胶体之间具有通孔,使该延伸垫位于该通孔中。藉由外露于通孔之延伸垫结合焊球,因铜材与焊锡材料之间的电性连接较佳,故可提升电性连接之品质。本发明复提供该半导体封装件之制法。
申请公布号 TWI453872 申请公布日期 2014.09.21
申请号 TW100121958 申请日期 2011.06.23
申请人 矽品精密工业股份有限公司 台中市潭子区大丰路3段123号 发明人 洪良易;白裕呈;孙铭成;林俊贤
分类号 H01L23/28;H01L21/56 主分类号 H01L23/28
代理机构 代理人 陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼
主权项 一种半导体封装件,系包括:介电层,系具有相对之第一表面与第二表面、及相邻该第一表面与第二表面之侧面;铜材之线路层,系形成于该介电层之第一表面上;表面处理层,系形成于该线路层上;半导体晶片,系设于该线路层上方并电性连接该线路层与表面处理层;以及封装胶体,系形成于该介电层之第一表面与侧面上以包覆该半导体晶片、线路层及表面处理层,且外露该介电层之第二表面,又该介电层之侧面与该封装胶体之间具有通孔,使部分该表面处理层位于该通孔中,且该线路层外露于该通孔。
地址 台中市潭子区大丰路3段123号