| 发明名称 |
正型光阻组成物及使用它之图案制作方法 |
| 摘要 |
一种正型光阻组成物包括：(A)因酸之作用显示在硷显影剂中溶解度增加之树脂；(B)一种在以光谱射线或辐射照射时可产生酸之化合物；(C)一种具有指定结构之含矽重复单元且对酸安定但不溶于硷显影剂的树脂；及(D)一种溶剂；及一种使用它之图案制作方法。 |
| 申请公布号 |
TWI453541 |
申请公布日期 |
2014.09.21 |
| 申请号 |
TW095145142 |
申请日期 |
2006.12.05 |
| 申请人 |
富士软片股份有限公司 日本 |
发明人 |
福原敏明;汉那慎一;神田博美 |
| 分类号 |
G03F7/039;G03F7/075;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/039 |
| 代理机构 |
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代理人 |
何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼 |
| 主权项 |
一种正型光阻组成物，其包括：(A)一种因酸之作用增加其在硷显影剂中溶解度之树脂；(B)一种在以光谱射线或辐射照射时可产生酸之化合物；(C)一种具有由以下通式(I)表示之含矽重复单元及/或由以下通式(II)表示之含矽重复单元且对酸安定但不溶于硷显影剂的树脂；及(D)一种溶剂：其中L表示单键或二价连结基；R1各独立地表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、烷氧基、或烷氧基羰基；R2表示具有至少一个矽原子之单价有机基；R3表示氢原子、卤素原子、氰基、或单价有机基；Q表示脂环结构；及k表示0至3之整数，其中按正型光阻组成物之总固体物质计，成分(C)之树脂的含量为0.1至5重量%。 |
| 地址 |
日本 |
