清洁图案化元件的方法与系统以及在基材上沉积一层系统的方法与涂覆系统

摘要

本发明揭露一种清洁一图案化元件之方法，该图案化元件具有至少一有机涂覆材料(OLED材料)沉积于其上，该方法包括：藉由一电浆蚀刻处理而提供一清洁电浆，以将涂覆材料自图案化元件上移除。在将涂覆材料自图案化元件上移除的过程中，图案化元件不超过会对图案化元件造成伤害之临界温度，并同时维持电浆蚀刻速率为0.2μm/min，特定为0.5μm/min，特定为1μm/min，特定为2.5μm/min，特定为5μm/min。为了产生一脉冲清洁电浆，系提供一脉冲能量。该方法可以在直接电浆蚀刻处理或是远端电浆蚀刻处理中进行。不同之蚀刻处理可结合或接续进行。

主权项

一种清洁一图案化元件之方法，该图案化元件具有沉积于其上之至少一有机涂覆材料(有机发光二极体材料；OLED材料)，其特征在于：该方法包括：提供一清洁电浆，以藉由一电浆蚀刻处理而将该涂覆材料自该图案化元件上移除，其中，在上述之将该涂覆材料自该图案化元件上移除的步骤中，藉由提供一脉冲能量，藉以产生一脉冲清洁电浆，以保持该图案化元件的温度小于或等于会对该图案化元件造成伤害之一临界温度(critical temperature)，其中，用于将该涂覆材料自该图案化元件上移除的该电浆，系藉由活化一活化气体而产生，以在一活化区域中产生该电浆，以及在上述之将该涂覆材料自该图案化元件上移除的过程中，该图案化元件系设置在该活化区域之外。