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发明名称
用于电浆蚀刻性能增强的方法
摘要
提供一种用于在一介电层中蚀刻特征的方法。在该介电层上形成一遮罩。在该遮罩的暴露表面上形成一保护性含矽涂层。藉由该遮罩和保护性含矽涂层来蚀刻该些特征。在形成该保护性含矽涂层之前,可局部地蚀刻该些特征。
申请公布号
TWI453814
申请公布日期
2014.09.21
申请号
TW096129259
申请日期
2007.08.08
申请人
泛林股份有限公司 美国
发明人
纪宾;艾瑞克 艾朵伯格;柳川匠;黄兴颂;李鲁民
分类号
H01L21/3065
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
许峻荣 新竹市民族路37号10楼
主权项
一种用于在一介电层中蚀刻特征的方法,包含:在该介电层上形成一遮罩;在该遮罩的暴露表面上形成一保护性含矽涂层,其中该形成该保护性含矽涂层包含:提供包含SiF4与H2的一保护性涂敷气体;将该保护性涂敷气体转换成一电浆;沈积来自该电浆的该保护性矽涂层;以及停止该保护性涂敷气体;以及将该些特征蚀刻穿过该遮罩和保护性含矽涂层。
地址
美国
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