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经营范围
发明名称
光传导元件、透镜、兆赫放射显微镜及元件之制造方法
摘要
[课题]提供一种可提升兆赫电磁波之侦测精度的兆赫放射显微镜、用于其中的光传导元件、透镜及元件之制造方法。;[解决手段]光传导元件系具备:基材、电极、膜材。前记基材系具有让兆赫电磁波入射的入射面,该兆赫电磁波系藉由从光源所产生的脉冲雷射,照射至观察对象的元件所产生者。前记电极系被形成在前记基材,用以侦测入射至前记基材之入射面的前记兆赫电磁波。前记膜材系被形成在前记基材的前记入射面,会让前记兆赫电磁波穿透,并使前记脉冲雷射反射。
申请公布号
TWI453440
申请公布日期
2014.09.21
申请号
TW101134468
申请日期
2012.09.20
申请人
新力股份有限公司 日本
发明人
鎌田将尚
分类号
G01R31/305;G01N21/88
主分类号
G01R31/305
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
一种光传导元件,其特征为,具备:基材,系具有让兆赫电磁波入射的入射面,该兆赫电磁波系藉由从光源所产生的脉冲雷射,照射至观察对象的元件所产生者;和电极,系被形成在前记基材,用以侦测入射至前记基材之入射面的前记兆赫电磁波;和膜材,系被形成在前记基材的前记入射面,会让前记兆赫电磁波穿透,并使前记脉冲雷射反射。
地址
日本
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