发明名称 电浆处理装置内构造体及电浆处理装置
摘要 提供即使在高温下执行处理之时,亦可以抑制在熔射皮膜产生损伤之情形,可以防止因绝缘不良产生放电等之电浆处理装置用构造体及电浆处理装置。;在基材100形成圆筒101。在该圆孔101内设置有由绝缘性之陶瓷等所构成之圆筒状之套筒120。套筒120是以不与熔射皮膜110接触之方式,其顶部121被设置成自圆孔101之上端部位于特定距离下侧。再者,在较顶部121上侧部份之圆孔101之侧壁部份,形成有绝缘体层130。然后,藉由熔射皮膜110、套筒120、绝缘体层130,构成覆盖基材100之上面(第1面),和圆孔101之内侧面(第2面)之绝缘面。
申请公布号 TWI453815 申请公布日期 2014.09.21
申请号 TW097109527 申请日期 2008.03.18
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 樋熊政一;武藤慎司
分类号 H01L21/3065;H01L21/02 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种电浆处理装置内构造体,被配设在使电浆作用于被处理基板而予以处理的处理腔室内,其特征为:至少具备基材,具有第1面和第2面;绝缘性之熔射皮膜,用以覆盖上述第1面;绝缘性之保护构件,用以覆盖上述第2面,由具有与上述基材不同之线膨胀系数之材料所构成;和缓冲面,以介在于上述熔射皮膜和上述保护构件之间的绝缘体层,被覆盖成无上述熔射皮膜和上述保护构件之接触处,藉由上述熔射皮膜、上述保护构件和上述绝缘体层,构成覆盖上述基材之上述第1面和上述第2面的绝缘面。
地址 日本
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