发明名称 |
反向变质(IMM)太阳能电池半导体结构及雷射剥离的方法 |
摘要 |
一种反向变质太阳能电池(inverted metamorphic solar cell)半导体结构,系提供外部的雷射进行雷射剥离(laser lift-off,LLO)制程,其包含基底层(substrate layer)、牺牲层(sacrifice layer)、复数能隙层(band-gap)与基板层(handle layer)。其中,该牺牲层系形成于该基底层上,且该牺牲层的材质系选自III-V族所形成之组合物;该等能隙层系形成于该牺牲层上,用以根据吸收来自外部的光源波长,产生相对应的电子电洞移动;以及该基板层系形成于该等能隙层上。藉由本发明使得该雷射光藉由入射该基底层至该牺牲层,使得该牺牲层剥离该等能隙层,进而达到具有高效率的IMM太阳能电池。此外,本发明系一并提出一种反向变质(IMM)太阳能电池半导体结构及雷射剥离的方法。 |
申请公布号 |
TWI453920 |
申请公布日期 |
2014.09.21 |
申请号 |
TW100121674 |
申请日期 |
2011.06.21 |
申请人 |
行政院原子能委员会核能研究所 桃园县龙潭乡文化路1000号 |
发明人 |
叶展玮;吴志宏;杨敏德;曾云亨 |
分类号 |
H01L31/00;H01L21/46;H01L21/30 |
主分类号 |
H01L31/00 |
代理机构 |
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代理人 |
赖安国 台北市信义区东兴路37号9楼;李政宪 新北市板桥区文化路1段285巷2弄52号;王立成 台北市信义区东兴路37号9楼 |
主权项 |
一种反向变质太阳能电池(inverted metamorphic solar cell)半导体结构,系提供外部的雷射进行雷射剥离(laser lift-off,LLO)制程,其包含:基底层(substrate layer);牺牲层(sacrifice layer),系形成于该基底层上,且该牺牲层的材质系选自III-V族所形成之组合物;复数能隙层(band-gap),系形成于该牺牲层上,用以根据吸收来自外部的光源波长,产生相对应的电子电洞移动;以及基板层(handle layer),系形成于该等能隙层上,其中,该牺牲层系透过调整该III-V族所形成之组合物的比例,以调整该牺牲层之晶格常数(lattice constant)与能带间隙(energy band-gap),用以匹配该基底层。 |
地址 |
桃园县龙潭乡文化路1000号 |