发明名称 Beleuchtungsoptik für ein Maskeninspektionssystem sowie Maskeninspektionssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
摘要 Eine Beleuchtungsoptik (1) für ein Maskeninspektionssystem wird mit EUV-Beleuchtungslicht (2) eingesetzt. Ein Hohlwellenleiter (9) der Beleuchtungsoptik (1) dient zur Führung des Beleuchtungslichts (2). Der Hohlwellenleiter (9) hat eine Eintrittsöffnung (7) für das Beleuchtungslicht (2) und eine Austrittsöffnung (10) für das Beleuchtungslicht (2). Zur Abbildung der Austrittsöffnung (10) in ein Beleuchtungsfeld (4) dient eine dem Hohlwellenleiter (9) nachgeordnete abbildende Optik (11). Diese hat mindestens einen Spiegel (14, 15) für streifenden Einfall des Beleuchtungslichts (2) mit einem mittleren Einfallswinkel (α1, α2), der größer ist als 60°. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, deren Durchsatz für das EUV-Beleuchtungslicht optimiert ist.
申请公布号 DE102013204444(A1) 申请公布日期 2014.09.18
申请号 DE201310204444 申请日期 2013.03.14
申请人 CARL ZEISS SMT GMBH 发明人 DEGÜNTHER, MARKUS;KORB, THOMAS
分类号 G03F1/84;G01N21/956;G02B17/06;G03F1/72;G03F7/20 主分类号 G03F1/84
代理机构 代理人
主权项
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