发明名称 Verfahren zum Ausbilden von defektarmen Ersatzflossen für ein FinFET-Halbleiterbauelement sowie daraus resultierende Bauelemente
摘要 <p>Ein beispielhaftes hier angegebenes Bauelement umfasst: eine Substratflosse, die in einem Substrat ausgebildet ist, das aus einem ersten Halbleitermaterial besteht, wobei wenigstens eine Seitenwand der Substratflosse im Wesentlichen in einer kristallographischen <100>-Richtung des Kristallaufbaus des Substrats angeordnet ist; einen Ersatzflossenaufbau, der über der Substratflosse angeordnet ist, wobei der Ersatzflossenaufbau aus einem Halbleitermaterial besteht, das sich von dem ersten Halbleitermaterial unterscheidet; und einen Gate-Aufbau, der um wenigstens einen Teil des Ersatzflossenaufbaus herum angeordnet ist.</p>
申请公布号 DE102014203524(A1) 申请公布日期 2014.09.18
申请号 DE201410203524 申请日期 2014.02.27
申请人 GLOBALFOUNDRIES INC. 发明人 FRONHEISER, JODY;JACOB, AJEY P.;MASZARA, WITOLD P.;AKARVARDAR, KEREM
分类号 H01L29/78;H01L21/336 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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